Learn More
Tetramethylammonium hydroxide, 1.0 M aq. soln., ACS
Beschreibung
Tetramethylammonium hydroxide is used as anisotropic etching of silicon, as a basic solvent in the development of acidic photo resist in the photolithography process, and is highly effective in stripping photo resist, and is used as a surfactant in the synthesis of ferrofluid, to inhibit nanoparticle aggregation.
This Thermo Scientific Chemicals brand product was originally part of the Alfa Aesar product portfolio. Some documentation and label information may refer to the legacy brand. The original Alfa Aesar product / item code or SKU reference has not changed as a part of the brand transition to Thermo Scientific Chemicals.
Spezifikation
Spezifikation
| Color | Colorless to Yellow |
| Linear Formula | (CH3)4NOH |
| Quantity | 1 L |
| UN Number | UN1835 |
| Beilstein | 3558708 |
| Sensitivity | Air Sensitive |
| Merck Index | 14,9224 |
| Solubility Information | Soluble in water. |
| Formula Weight | 91.15 |
| Grade | ACS |
| Mehr anzeigen |
RUO – Research Use Only
Indem Sie auf Absenden klicken, erklären Sie sich damit einverstanden, dass Fisher Scientific sich mit Ihnen in Verbindung setzen kann, um Ihr Feedback in diesem Formular zu bearbeiten. Wir werden Ihre Informationen nicht für andere Zwecke weitergeben. Alle bereitgestellten Kontaktinformationen werden in Übereinstimmung mit unserer Datenschutzrichtlinie aufbewahrt. Datenschutzrichtlinie.